99–99,99 % kristalline Bor-Granulate, 5–10 mm, für B-Legierungsziele
Kristalline Bor-Granulate (5–10 mm) mit einem Reinheitsgrad von 99–99,99 % für Bor-Legierungstargets. Das Material zeichnet sich durch eine vollständig kristalline Struktur, einen geringen Verunreinigungsgehalt, stabile chemische Eigenschaften und geringe Gasentwicklung aus. Es
dient hauptsächlich als Rohmaterial für Sputtertargets aus Borlegierungen und eignet sich für Vakuumschmelzen, Legierungsschmelzen, Halbleiter-Dünnschichtbeschichtung, PVD-Targetherstellung und die Produktion fortschrittlicher elektronischer Materialien. Durch die Zugabe zu einer Metallmatrix lassen sich borhaltige Legierungstargets mit homogener Zusammensetzung herstellen.
Produktindex von 3N 4N kristallinem Borgranulat 3-5 mm 5-10 mm aus China:
| Molekularformel: | B |
| CAS | 7440-42-8 |
| Dichte | 2,3 g/cm³ |
| Phase | β-B-Phase |
| Schmelzpunkt | 2300 °C |
| Siedepunkt | 2550 °C |
| Mohs-Härte | >9 |
| Relative Atommasse | 10,81 |
| Stabile Isotope | 10B, 11B |
| Farbe | Dunkelgrau, Schwarz |
Chemische Zusammensetzung:
| Chemische | 2N KRISTALLINES BOR | 3N KRISTALLINES BOR | 4N KRISTALLINES BOR | 5N KRISTALLINES BOR | 6N KRISTALLINES BOR |
| B | ≥99% | ≥99,9 % | ≥99,99 % | ≥99,999 % | ≥99,9999 % |
| Fe | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0,5 ppm |
| Bei | ≤2,5 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,06 ppm | ≤0,02 ppm | ≤0,02 ppm |
| Bei | ≤1 ppm | ≤0,8 ppm | ≤0,3 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Mit | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,03 ppm | ≤0,03 ppm |
| Sn | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,08 ppm |
| Mn | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,07 ppm |
| Pb | ≤0,08 ppm | ≤0,3 ppm | ≤1,1 ppm | ≤0,08 ppm | ≤0,02 ppm |
| Das | / | ≤18 ppm | ≤0,2 ppm | ≤0,1 ppm | ≤0,01 ppm |
| Als | / | / | / | ≤0,08 ppm | ≤0,01 ppm |
| IN | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,02 ppm |
| Ge | / | / | / | ≤0,05 ppm | ≤0,04 ppm |
Typische Größe und Verpackung:
| BORGEHALT | TYPISCHE GRÖSSE | Paket |
| 99 | 1–5 μm, 10–30 μm, 50–100 μm | 1 kg/5 kg Verpackt in einem Vakuum-Aluminiumfolienbeutel (nur Nanopulver versiegelt, kein Vakuum). |
| 99,9 | -200 Mesh, 0-10 μm, 1-10 mm | Pulverform: 1 kg/5 kg/ verpackt in einem Vakuumbeutel aus Aluminiumfolie,
Granulatform: 50 g/500 g/1000 g verpackt in PP-Flaschen, gefüllt mit Schutzgas. |
| 99,99 | -200 Mesh, 1-10 mm | 50 g/100 g abgefüllt in PP-Flasche, mit Inertgasverschluss. |
| 99,999 | ||
| 99,9999 |
Anwendung:
1. Anwendungen von kristallinem Bor in der Nuklearindustrie:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
Kristallines Bor kann auch zur Herstellung hochharter Werkstoffe wie Borcarbid (B₄C) und Graphit-Bor-Verbindungen (Bg) verwendet werden. Borcarbid ist ein extrem harter keramischer Werkstoff mit ausgezeichneter Verschleiß- und Hochtemperaturbeständigkeit und findet daher breite Anwendung in der Herstellung von kugelsicheren Westen, Hartwerkzeugen, Schleifmitteln und verschleißfester Keramik. Graphit-Bor-Verbindungen sind Werkstoffe mit graphitähnlicher Struktur, die eine hohe elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität aufweisen und zur Herstellung von Hochleistungsbindemitteln, Wärmeleitmaterialien und Reibungsmaterialien verwendet werden können.
6. Anwendungen von kristallinem Bor in Wärmebatterien:
Thermische Batterien sind einphasige, thermisch aktivierte Energiespeicher, die geschmolzenes Salz als Elektrolyt verwenden. Sie zeichnen sich durch geringe Größe, niedriges Gewicht, lange Speicherdauer, Wartungsfreiheit, schnelle und zuverlässige Aktivierung sowie einen breiten Betriebstemperaturbereich aus und finden breite Anwendung in den Zündvorrichtungen einiger strategischer und konventioneller Waffensysteme. Das Anodenmaterial einer thermischen Batterie ist entscheidend für ihre Kapazität, ihr Volumen und ihre Leistungsabgabe. Die Anodenmaterialien für thermische Batterien haben sich von anfänglich magnesium- und calciumhaltigen Materialien zu den heutigen lithiumbasierten Materialien weiterentwickelt. Beispielsweise weisen Li-B-Komposite herausragende Vorteile auf, wie eine hohe Energiedichte, eine hohe Leistungsabgabe, eine geringe Polarisation, ein elektrochemisches Potenzial nahe dem von reinem Lithium und die Fähigkeit, auch bei Temperaturen über 600 °C fest zu bleiben. Sie gelten als vielversprechendstes Anodenmaterial für thermische Batterien und finden zunehmend Anwendung in Hochleistungsbatterien.
7. Anwendungen von kristallinem Bor in der Rüstungsindustrie:
Kristallines Bor kann zur Herstellung von hochreinen borkeramischen ballistischen Werkstoffen, hochreinen Borverzögerungsmitteln, hochreinen Bor-Schweißflussmitteln, hochreinen Bor-Sprengstoffen sowie hochreinen borreichen und sauerstoffarmen Raketentreibstoffen verwendet werden.
8. Kristallines Bor in der Legierungsherstellung:
Hochreine Bor-Kupfer-Legierung, hochreine Bor-Titan-Legierung, hochreiner polykristalliner Bor-Stahl, hochreine superharte verschleißfeste Bor-Werkzeuge, hochreine korrosionsbeständige Bor-Stahlplatten, hochreine Bor-Nickel-Legierung, hochreine Bor-Chrom-Legierung, Lithium-Bor-Legierung (ein neuartiges Batteriematerial), supraleitende Bor-Magnesium-Legierung.
9. Anwendungen von kristallinem Bor in der Luft- und Raumfahrt:
Hochreines, kristallines Borpulver eignet sich als Nanobeschichtungsmaterial. Mittels Sputtertechnologie wird das Pulver auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht, wodurch Bauteile verschleißfest, korrosionsbeständig, hochtemperaturbeständig, oxidationsbeständig und witterungsbeständig werden. Dies erfüllt die Anforderungen von Triebwerken unter den extremen Einsatzbedingungen der Luft- und Raumfahrt und kann auch spezielle Anforderungen in der Optoelektronik und anderen Bereichen erfüllen.
Paket:
Häufig gestellte Fragen:
1. Frage: Gibt es irgendwelche Beschränkungen für den Export von kristallinem Bormaterial aus China?
A: Ja, für hochreine, kristalline Bor-Körner und Bor-Pulver ist eine Exportlizenz für den doppelten Verwendungszweck erforderlich. Partikel mit einer Größe über 0,5–1 mm können jedoch exportiert werden.
2. F: Was ist die Kristallphase von kristallinem Borpulver?
A: Es handelt sich um die Beta-Phase der ikosaedrischen Struktur.
