Category: ANWENDUNG

Hochreines, amorphes Borpulver dient als aktive p-Dotierstoffquelle in Elektronikpasten. Seine amorphe Struktur senkt die Aktivierungsenergie für die Bordiffusion und ermöglicht so die Bildung niederohmiger ohmscher Kontakte bei relativ niedrigen Glühtemperaturen. Es dient als Sinterhilfsmittel zur Verdichtung der Beschichtung und Verbesserung der Substrathaftung. Nach der Wärmebehandlung bildet es eine Boridphase, die als Metalldiffusionsbarriere wirkt und die Beständigkeit gegen Plasmaätzen erhöht. Es optimiert den Beschichtungswiderstand und verfeinert das Korngefüge, wodurch die thermische Stabilität und Zuverlässigkeit elektronischer Bauteile verbessert werden.

Schwarzes Siliciumcarbid F100, hergestellt durch Wasserwäsche, ist ein feiner Siliciumcarbid-Sand, der durch Hochtemperaturschmelzen, Zerkleinern, Säure- und Laugenwäsche sowie abgestufte Reinigung gewonnen wird. Es erfüllt die Kernanforderungen von Siliciumcarbid-Widerständen (Varistoren/Magnetisierungswiderständen) für die Halbleiterindustrie und zeichnet sich durch fünf wesentliche Vorteile aus: hohe Reinheit und geringe Verunreinigungen, kontrollierbare elektrische Eigenschaften, hohe thermische Stabilität, dichte Struktur sowie Witterungsbeständigkeit und Langlebigkeit.

Schwarzes Siliciumcarbid-Pulver F500 wird durch Feinverarbeitung hergestellt und erreicht eine Reinheit von bis zu 98,5 %. Seine hohe Reinheit und gute Fließfähigkeit machen es zu einem hervorragenden keramischen Füllstoff in wasserbasierten, korrosionsbeständigen Industrielacken und verbessern deren Eigenschaften hinsichtlich Korrosionsbeständigkeit, Abriebfestigkeit und Witterungsbeständigkeit.