GC-Pulver zum Polieren und Läppen von Saphir-Wafer

GC-Pulver zum Polieren und Läppen von Saphir-Wafer

Beim Polieren von Saphirwafern wird häufig Borcarbid als Schleifmaterial verwendet. Der Preis für Borcarbid ist jedoch hoch. In Situationen, in denen eine schnelle Entfernung erforderlich ist, kann auch GC-Pulver (grünes Siliziumkarbidpulver) den gewünschten Schleifeffekt erzielen.

GC-Pulver hat folgende Vorteile:

1. Hohe Härte und Verschleißfestigkeit.

Grünes SiC ist ein Material mit extrem hoher Härte. Obwohl es nicht mit superharten Materialien wie Diamant und kubischem Bornitrid vergleichbar ist, ist es mit Borcarbid durchaus vergleichbar. Diese hohe Härte ermöglicht es, Saphirkristalle während des Schleifvorgangs effektiv zu schneiden, wodurch der Verschleiß verringert und die Schleifleistung verbessert wird.

2. Gute chemische Stabilität.

GC-Polierpulver weist während des Schleifvorgangs eine ausgezeichnete chemische Stabilität auf und reagiert nicht leicht mit Saphirkristallen oder anderen Schleifmitteln. Dadurch werden die Stabilität des Schleifvorgangs und die Qualität des Endprodukts gewährleistet.

3. Hohe Wärmeleitfähigkeit.

GC-Schleifpulver verfügt über eine hohe Wärmeleitfähigkeit, was bedeutet, dass die beim Schleifvorgang erzeugte Wärme schnell abgeleitet werden kann. Dadurch werden Schäden durch thermische Belastung an Saphirkristallen verringert und die Integrität und die optischen Eigenschaften des Kristalls bleiben erhalten.

4. Gleichmäßige Partikelgröße.

GC-Schleifpulver wird einer Feinverarbeitung unterzogen, um eine gleichmäßige Partikelgrößenverteilung zu erreichen. Dies trägt zu gleichmäßigeren und präziseren Schleifeffekten bei und stellt die Glätte und Konsistenz der Saphirglasoberfläche sicher.

5. Kosteneffizienz.

Der Preis von GC-Pulver ist niedriger als der von Borcarbid, wodurch die Kosten des Grobpolierprozesses kontrolliert und die Effizienz verbessert werden können.

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