99 % SiC-Pulver 10–15 Mikron zum Polieren von Quarzglas
SiC-Pulver ist ein sehr aggressives Poliermittel für Quarzglas. Es ermöglicht die hocheffiziente Endbearbeitung der Glasoberfläche.
Mit 99 % SiC-Pulver (10–15 Mikron) lässt sich beim Polieren von Quarzglas eine Oberflächenrauheit Ra von etwa 0,35–0,4 µm erreichen .
